Компания Зэнко Плазма предлагает серию центрифуг для нанесения, проявления и отмывки подложек от фоторезиста. Эти установки сделаны из износостойких материалов и фурнитуры, которая может прослужить много лет.
Основные преимущества:С программным обеспечением Spin 3000 можно достичь большой гибкости в работе как при отладке процесса, так и при обычной работе. Оно позволяет оператору взаимодействовать с установкой в режиме онлайн в любом месте в лаборатории. Программное обеспечение легко обновляется.
Комплект поставки всех центрифуг может включать планшет с Bluetooth для управления. При использовании ПК в работе появляется возможность записывать процесс, перепрограммировать, удаленно работать с использованием LAN или интернета. С помощью программного обеспечения можно виртуально моделировать процессы, даже если в комплекте нет соответствующего оборудования.
Все модели серии могут пройти модернизацию без возврата их на завод изготовителя благодаря простой установке модулей.
Центрифуга нанесения фоторезиста Laurell серия 650. Установка нанесения фоторезиста Laurell Spin Coater позволяет наносить фоторезист на пластины диаметром до 300 мм. Отлично подходит для исследовательских задач при работе с разными материалами.
Центрифуга Laurell серия EDC. Центрифуга Laurell EDC предназначена для работы с агрессивными жидкостями (процессы отмывки и проявления).
Станция нанесения фоторезиста WS-1000. Станция работы с фоторезистом Laurell WS-1000 позволяет быстро и удобно оснастить рабочее место для нанесения фоторезиста.Совместима со всеми моделями центрифуг Laurell.