ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт
Корзина (0)
Установка атомно-слоевого осаждения ZP-PEALD-B
ZP-PEALD-B - установка плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения с источником ICP плазмы. Разработана для научных исследований и применения в специальных областях промышленного производства. Позволяет проводить групповую обработку до 20 пластин размером до 200 мм. Широко применяется при осаждении материалов, чувствительных к температуре, а также, при осаждении пленок на гибкие подложки.
Осаждаемые материалы:
- оксиды (TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2 и т.д.)
- нитриды (TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN и т.д.)
- металлы (Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe)
- полупроводники A2B6, A3B5 и сложные оксиды (GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3, SrTaO6)
Особенности:
- Установка разработана для научных исследований и применения в специальных областях промышленного производства
- Рабочая камера для групповой обработки пластин размером до 200 мм
- Наличие источника ICP плазмы мощностью 300 Вт позволяет осаждать пленки материалов, чувствительных к температуре
- Регулируемая температура подложки 25 – 500°C
- Подогреваемые линии подачи прекурсоров (в зависимости от конфигурации прекурсоров). Стандартно 3 линии
- Система управления на основе PLC и сенсорного дисплея, с возможностью задания параметров технологического процесса
- Установка в условиях чистых помещений
| Технические характеристики | |
| Размер пластин | До 300 мм включительно |
| Мощность источник ICP плазмы | 300 Вт, 13,56 МГц |
| Температура подложки | От комнатной до 500⁰С, с точностью ± 0,1⁰С |
| Линии подачи прекурсоров | 3 линии (опционально - большее число) |
| Температура линии подачи прекурсоров | От комнатной до 200⁰С, с точностью ± 0,1⁰С |
| Температура источника горячих прекурсоров | От комнатной до 200⁰С, с точностью ± 0,1⁰С |
| Линии подачи газа, для формирования плазмы | 3 линии (опционально- большее число) |
| Специальные ALD клапаны | Swagelok ALD |
| Предельное давление | < 5∙10-3 Торр |
| Газ-носитель | N2 или Ar |
| Режим осаждения | Последовательный или интервальный |
| Производительность | До 20 пластин в загрузке |
| Система управления | PLC и сенсорный экран/дисплей |
| Питание | 50-60 Гц, 220 В / 20 A AC |
| Равномерность осаждения | < ±1 % |
| Габаритные размеры, мм | 1281x789x1710 |
| Опции | Дополнительные линии подачи прекурсоров; Расширенный диапазон температур для подогреваемых линий подачи прекурсоров; Озоновый генератор; |