ДОСТАВКА ПО РОССИИ И СТРАНАМ СНГ
РЕЖИМ РАБОТЫ
09.00-18.00, пн-пт
Корзина (0)
Жидкостная обработка
Компания ЗЭНКО ПЛАЗМА является официальным дистрибьютором компании ULTRA t Equipment. Компания ULTRA t Equipment специализируется на производстве оборудования для жидкостной обработки (гидромеханическая отмывка, жидкостное травление), нанесения, проявления и удаления фоторезиста. Оборудование от ULTRA t Equipment находит применение в R&D центрах и производстве полупроводников, фотошаблонов, оптики и печатных плат.
Установка SCS112
- идеальное решение для субмикронной отмывки пластин после резки или скрайбирования
- односторонняя обработка
- совместима с пластинами или рамками размером до 8”
- осциллирующая система подачи деионизованной воды давлением 2000 PSI или аэрозольным распылением
- вакуумный или механический подложкодержатель
- ИК сушка
- СО2 обработка для снятия статического заряда
- высокая производительность.
Установка SCSe124
- универсальная установка для субмикронной отмывки кремниевых пластин, пластин после резки или скрайбирования, фотошаблонов
- односторонняя обработка
- совместима с подложками размером до 10”
- осциллирующая система из двух диспенсеров для подачи деионизованной воды высокого и низкого давления
- механический подложкодержатель
- мегазвук или ультразвук
- отмывка при помощи щеток
- возможность подключения системы подачи химреактивов
- ИК сушка
- СО2 обработка для снятия статического заряда
- высокая производительность
Установка SCSe 133
- универсальная установка для групповой отмывки кремниевых пластин, фотошаблонов и подложек
- односторонняя обработка
- подложкодержатель размером 21”
- осциллирующая система из четырех диспенсеров для подачи деионизованной воды высокого и низкого давления или аэрозольного распыления
- вакуумный или механический подложкодержатель
- мегазвук или ультразвук
- отмывка при помощи щеток
- возможность подключения системы подачи химреактивов
- ИК сушка
- СО2 обработка для снятия статического заряда
- высокая производительность.
Установка DCSe606
- универсальная установка для групповой отмывки кремниевых пластин, фотошаблонов и подложек
- вертикальное расположение подложек
- двухсторонняя обработка
- подложкодержатель размером 20”
- осциллирующая система из двух диспенсеров для подачи деионизованной воды высокого и низкого давления или аэрозольного распыления
- вакуумный или механический подложкодержатель
- мегазвук или ультразвук
- отмывка при помощи щеток
- возможность подключения системы подачи химреактивов
- ИК сушка
- СО2 обработка для снятия статического заряда
- высокая производительность